经过三十多年的研发,接近式X射线光刻技术已经非常成熟,其具有分辨率高、焦深大、工艺宽容度大、产量高等诸多优点.对于X射线掩模......

金刚石膜具有高的X射线透过率、辐射硬度、杨氏模量、导热率,是新型的X射线掩模基膜材料.根据X射线光刻对基膜材料的要求,本文研究......

x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求。本......

<正>X射线光刻技术(XRL)是刻制130nm,100nm和70nm最小尺寸图形的可行方案之一.其它候选技术还有193nmArF准分子激光光刻、电子束投......

同步辐射Ｘ射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置３Ｂ１Ａ光刻束线上的日光结果，并对Ｘ射线掩模的制作工艺作......

开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性.利用相同的有限元技术,对X射线光刻掩模的背面开窗、......

采用侧墙工艺技术研制深亚微米Ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射Ｘ射线曝光实验，初步获得了深亚微米光刻图形。......

目前看来，１９３ｎｍ与ｘ射线光刻技术都很希望应用到０．１３μｍ ０．１３μｍ以下的集成电路工业中去，而掩膜笃这两种光刻技术而言是非常重要的．本文对１９３ｎｍ光学掩模与ｘ射......

x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求.本文......

本文叙述了适用于微型机械制造的一种新的工艺—LIGA工艺的技术组成。着重介绍了LIGA工艺中X射线光刻掩模的制作步骤和方法。......