【摘 要】
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x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求。本文中我们首先对我们的x射线掩模制造工艺进行
【机 构】
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中国科学院微电子中心,中国科学院微电子中心,中国科学院微电子中心,中国科学院微电子中心 北京100010,北京100010,北京100010,北京100010
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x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求。本文中我们首先对我们的x射线掩模制造工艺进行介绍,然后论述了一种用于制造深亚微米T形栅的两层胶工艺,介绍了所取得的一些研究结果,最后对国内的深亚微米光刻现状进行了简要分析。
X-ray lithography is well suited for the fabrication of deep sub-micron T-gates because of its high resolution, large exposure field of view, and high throughput sufficient to meet the MMIC manufacturing process requirements. In this paper, we firstly introduce the manufacturing process of our x-ray mask, and then we discuss a two-layer adhesive process for making deep submicron T-shaped grids. Some of the research results obtained are introduced. Finally, Submicron lithography status were briefly analyzed.
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