(Al相关论文
Due to the wide application of UV-A(320 nm–400 nm)and UV-C(200 nm–280 nm)photodetectors,dual-wavelength(UV-A/UV-C)phot......
目前,虽然Zn1-xT Mx O1-y Ny（TM=Al,Ga,In）p型掺杂的理论计算研究已有报道,但是,掺杂均是随机的,没有考虑ZnO的非对称性进行择优位向......
Due to the wide application of UV-A (320 nm-400 nm) and UV-C (200 nm-280 nm) photodetectors,dual-wavelength(UV-A/UV-C) p......
研究了(Al,Mn)3Ti-2V和TiAl在900℃的(Na,K)2SO4以硬850℃的Na2SO4+NaCl熔盐中的热腐蚀行为.结果表明,(Al,Mn)3Ti-2V在(Na,K)2SO4......
以制备出性能优异成本低廉的低辐射镀膜玻璃为目的．通过直流磁控反应溅射技术在玻璃（或单晶硅）表面制备（Al，Ti）N薄膜作为低辐射镀膜玻璃......
采用Al-Ti镶嵌复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Al,Ti)N涂层,并采用EDS,AFM,XRD,TEM和微力学探针表征了涂层的沉积速率、化学成......
以金属Al粉、电熔镁砂和电熔棕刚玉为原料,热固性酚醛树脂为结合剂,制备了Al-MgO-Al 2O 3耐火材料试样。在空气条件下以两种升温制......
研究了(Al，Mn)3Ti-2V和TiAl在900℃的(Na，K)2SO4以及850℃的Na2SO4+NaCl熔盐中的热腐蚀行为．结果表明，(Al，Mn)3Ti2V在(Na．K)2SO4中的耐蚀......
采用Al—Ti镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列（Al，Ti）（O，N）涂层。并采用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的化......
金属原子比Ti(Ti+Al)R1=0-1.0和金属离子原子比（Ti+Al)/N R2=0.5-1.5范围内，当氮离子束流密度为0．10mA/mm^2氮离子能量为2．0keV时，采用......
取向硅钢利用析出物作为抑制剂,抑制初次再结晶晶粒的长大,抑制剂是取向硅钢发生二次再结晶的基本条件之一。文中通过低温板坯加热......
分析了 MOCVD 生长(Al,Ga)As 非有意和有意碳掺杂的气相和表面过程,认为表面和表面附近由于甲基化合物异相分解生成的 CH_3~-自由......
本文研究了在Bulat-6多弧离子镀膜机上真空电弧沉积AlN薄膜的基础上,对AlN基薄膜进行铬元素的复合制备了（Al,Cr）N薄膜,采用Al/Si合金......
液态铅铋是加速器驱动次临界系统（ADS）的冷却剂兼散裂靶主选材料之一,作为加速器ADS系统中最合适的候选结构材料之一的奥氏体不锈钢3......
