相移掩膜相关论文
介绍亚分辨图形掩模的原理、应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺.......
近日．应用材料公司宣布推出先进的Applied Centura TetraTMⅢ掩膜刻蚀设备，它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重要......
摘要：目前TFT LCD市场对产品像素密度（PPI）要求越来越高，开发新的高PPI Mobile产品对于平板企业 而言，边效增加会获得更大的利润。实现......
本文论述了相移掩膜（ＰＳＭ）提高光刻分辨率的基本原理、主要类型、无铬ＰＳＭ的制作方法，简述了曝光实验和实验结果。用ＮＡ＝０．２８的ｇ线光刻机得到了０．５μｍ的实际......
