无铬相移掩模光刻技术

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本文论述了相移掩膜(PSM)提高光刻分辨率的基本原理、主要类型、无铬PSM的制作方法,简述了曝光实验和实验结果。用NA=0.28的g线光刻机得到了0.5μm的实际分辨率。
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