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应用自制的热丝(HF)CVD装置分别在硅和渗铬T10钢基底上沉积了HFCVD金刚石膜;在硅基底上沉积的金刚石膜中,除常规的(纯)金刚石膜之......
对热丝法化学气相沉积金刚石膜过程的气氛进行了模拟与分析.使用GRI-Mech3.0甲烷燃烧过程C/H/O/N四元体系热化学反应机理和动力学......
以大面积HFCVD系统为研究对象,应用传热学理论建立了衬底温度场模型.根据金刚石成膜过程中对衬底温度大小及均匀性的工艺要求,对影......
研究了改变本底真空对薄膜质量的影响,给出了在该系统中得到质量较高金刚石薄膜的最小本底真空值:阐述了降低灯丝温度对薄膜质量的影......
以电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺制备单晶硅微齿轮陈列模具,采用热丝法化学气相沉积(HFCVD)制备出结构精细的金刚石微齿轮,其齿顶圆直径......
热丝法化学气相沉积金刚石薄膜系统内, 衬底温度和碳源气体浓度是金刚石薄膜生长最为重要的参数.本文根据传热学基本原理,数值模拟......
由于热丝法气相沉积金刚石薄膜质量好,设备简单,成本低而受到广泛应用。本文研究了改变背底真空对薄膜质量的影响,着重讨论了在该......