微电子技术可算得上是人类有年史以来最卓越的技术，微电子技术的发展迅猛异常，迄今为止，在人类的科学技术史还没有一种技术象它这样地......

该论文结合国家重点"863"项目之一——"ULSI用新型光致抗蚀剂"的需要,目的是为193nm光致抗蚀剂提供适用的光产酸剂.193nm光致抗蚀......

介绍了市村国宏教授率先在２０世纪９０年代末期提出的酸增殖（Ａcid proliferation) ,酸增殖源，酸增殖型光致抗蚀剂等新概念，作出了几种有用的酸......

介绍了酸增殖机理、酸增殖源的种类、典型化合物在化学增幅抗蚀剂体系中的应用及对灵敏度的提高,提出在计算机直接制版版材研究中......

本文利用二苯碘盐为光敏产酸物，吩噻嗪为敏化剂，配制了一种甲酚醛树脂———六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）负性水型紫外化学增抗蚀剂，并研究......

本文综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理.对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了......

研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）、六氟磷酸根二苯碘Ｗｏｎｇ盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂，发现二苯基碘Ｗｏｎｇ盐不公可......

通过研究对甲苯磺酸酯空心酞菁的性质，发现该化合物在紫外光照射下可生酸，是一种光生酸剂．由于酞菁类化合物本身具有光催化氧化反应的......

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