该论文结合国家重点"863"项目之一——"ULSI用新型光致抗蚀剂"的需要,目的是为193nm光致抗蚀剂提供适用的光产酸剂.193nm光致抗蚀剂要求光产酸剂具有良好的透明性,而目前常用的光产酸剂由于含有苯环在193nm吸收很强,不适用于193nm光致抗蚀剂.基于以上考虑,选择了一种新型的含有萘环的硫鎓盐产酸剂,据报道适用于193nm光致抗蚀剂,合成了该类化合物并对其性质进行了详细地研究.从合成的S-(2-萘甲酰)甲基四氢噻吩鎓对甲苯磺酸盐、甲磺酸盐、三氟甲磺酸盐的实验结果表明,该类光产酸剂具有较高的热解温度,在常用的有机溶剂中具有较好的溶解性;在水溶液和聚乙二醇膜层中的紫外吸收光谱都表明甲磺酸盐、三氟甲磺酸盐的硫鎓盐在193nm具有良好的透明性,而对甲苯磺酸硫鎓盐却有很强的吸收;采用低压汞灯(254nm)作曝光光源,研究了这些光产酸剂在光敏组成物中的光解性质和成像性质.实验结果表明这类硫鎓盐适用于193nm光致抗蚀剂.同时,对制备方法进行了详细地研究,这将有利于这类适用于193nm光致抗蚀剂的产酸剂的进一步开发利用.松香酸和马来酸酐进行双烯加成反应得到马来海松酸,进一步反应制得N-羟基酰亚胺磺酸酯,同时对羧基进行保护,得到一类新型光产酸剂——N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯及其衍生物.这类化合物在聚乙二醇膜中的紫外吸收表明其在193nm具有良好的透明性;以低压汞灯作曝光光源,研究了其光解性质及以其作产酸剂的成像体系的成像性质;该产酸剂具有良好的热稳定性和储存稳定性,在常用的有机溶剂中具有很好的溶解性.更值得注意的是:该类产酸剂的酸解离基团可以发挥阻溶-促溶剂的作用.实验结果表明这类产酸剂适用于193nm光致抗蚀剂.化学增幅型光致抗蚀剂可以由成膜树脂、光产酸剂、阻溶剂组成.该文利用松香酸和间苯二酚反应,再进一步和氯甲基甲基醚或乙烯基乙基醚反应,合成了一类新型阻溶剂,并且详细地研究了它们的酸解性能,实验表明含有该阻溶剂的成像体系具有良好的成像性能.所有的反应过程和产物都通过薄层色谱(TLC)、红外光谱、核磁共振、元素分析等手段进行检测.