光刻仿真相关论文
在MEMS制造领域,光刻工艺是其中举足轻重的一环。在器件尺寸逐渐减小的当下,光刻工艺的复杂性大大增加,在实验室或者生产线上进行......
光学邻近校正 (OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果 .基于 Gabor的“降解为主波”方法 ,一个......
无论是在微机电系统(MEMS)还是集成电路(IC)领域,SU-8厚胶光刻已经成为制造高深宽比结构的主流工艺。为了取代昂贵而耗时的光刻实......
根据最新的国际半导体技术路径图(ITRS)，浸没式ArF(氟化氩)光刻是实现特征尺寸(CD，Critical dimension)45nm及以下技术节点最有潜力......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
无论是在微机电系统（MEMS）还是集成电路（IC）领域，SU-8厚胶光刻已经成为制造高深宽比结构的主流工艺。为了取代昂贵而耗时的光刻实验，一套......
讨论提出用连续的光源描述函数代替0～1分布的光源函数精确描述光源光强分布，以提高光刻分辨率．在SPIAT的基础上应用新的光源特征函数，......
在纳米工艺下,为了更好地抵抗工艺波动的影响,减小位于标准单元边界处的MOS管沟道长度随聚焦误差引起的变化,提出在现有版图基础上......
提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶......
光刻仿真工具是描述实际工艺的有效工具.利用光刻仿真工具,能够准确地描述由掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻......
通过对光刻系统中光学成像系统的模拟,提出了改善光刻分辨率的途径以及基于卷积核的计算光强的方法,并介绍了光学系统的传输交叉系......
大面积复杂掩模图形的光刻仿真,要同时满足高精度和高效率两个要求。为克服现有方法积分区域大,计算效率低等问题,提出了一种基于......
首次利用自主研发的光刻辅助设计软件MicroCruiser结合Prolith8.0.2,研究了分辨力增强技术在65 nm浸没式ArF光刻中的应用,研究表明......
无论是在微机电系统（MEMS）还是集成电路（IC）领域,SU-8厚胶光刻已经成为制造高深宽比结构的主流工艺。为了取代昂贵而耗时的光刻实验,一......
光学邻近校正（OPC）系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果。基于Gabor的“降解为主波”方法，一个部分相......
在深度光刻中为了仿真微结构的形状,需要利用三维光场分布的数据对其进行三维重建。而MC(Marching Cubes)算法是三维重建中构造等......
随着科学数据和信息呈爆炸性的增长,人们面临的一大挑战就是如何有效地理解和利用这些海量数据。论文通过对海量数据实时三维交互......
从0.18um技术节点开始,半导体制造工艺中广泛采用了所谓“亚波长光刻”技术。在该种技术下生产的集成电路特征尺寸小于光源波长。......
近年来,随着MEMS研究及其应用的快速发展,微细加工技术作为其中的一个重要组成部分,获得了长足的进步。UV-LIGA技术是现代微细加工......
目前,光刻技术仍然是超大规模集成电路制造的主要手段,随着集成电路特征尺寸(CD)的不断缩小,集成电路制造对光刻分辨力的要求也越......
通过PROLITH光刻仿真软件研究了非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响以及图形位置偏移量对光瞳偏心的敏感度随数值孔径NA和相干因......
研究了照明光瞳非对称性对光刻成像质量的影响。通过PROLITH软件计算了环形与四极照明条件下,光瞳非对称性对图形位置偏移量、曝光......
投影式光刻机是微电子产业中极大规模集成电路的加工设备。照明系统和投影物镜系统是投影式光刻机的重要组成部分，其性能的好坏对光......
使用光刻仿真工具模拟掩模图形到硅圆片的转移成像结果 ,可以分析集成电路在工艺规则下产品的可靠性和部分电学特性 基于Gabor的“......
随着半导体工艺节点的不断进步,光刻问题已经成为半导体行业按摩尔定律继续发展的最大瓶颈。针对光刻的可制造性设计(DFM)在深亚纳......
集成电路设计和制造已经发展进入超深亚微米阶段,从0.18um技术节点开始,半导体制造工艺中广泛采用了亚波长光刻技术。当集成电路的......
近年来，微机电系统(MEMS，Micro Electro Mechanical System)研究及其应用的快速发展，推动着微细加工技术的不断改进和提高。UV-LIGA技......
为提高光刻仿真效率，通过对光刻原理进行研究，提出了2种多边形处理算法，将掩模上的多边形图案进行切分优化，将其划分成若干矩形或三角......
光刻仿真是SOC(System On Chip)光刻工艺的重要环节,为了实现仿真数据3D可视化,在光刻仿真程序SPLAT(Simulation of Projection Le......
