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首次利用自主研发的光刻辅助设计软件MicroCruiser结合Prolith8.0.2,研究了分辨力增强技术在65 nm浸没式ArF光刻中的应用,研究表明,相移掩模结合传统照明可以获得较大的工艺窗口,但是,引起的曝光图形偏移较大.而传统掩模结合离轴照明可以获得较大的工艺窗口,但是,引起的曝光图形偏移较小.因而,通过对单个像差的控制和进行的不同Zernike系数组合,可以大大减少曝光图形的偏移.