不锈钢衬底相关论文
本文报道纳米硅P层对n-i-p型非晶硅(a-Si:H)电池性能特别是开路电压(Voc)的影响。Raman散射和透射电镜(TEM)分析表明，这种P层是复相......
本文采用三步共蒸发方法，在不锈钢衬底上低衬底温度生长不同厚度的多晶CIGS薄膜，利用台阶仪、X射线荧光光谱(XRF)表征薄膜的厚度、成......
利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以PH3为掺杂剂,在浮法玻璃衬底和不锈钢衬底上制备了纳米级的n型微晶硅薄膜。采......
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
不需要添加任何催化剂,直接在含有少量Ni和Cr成分的不锈钢衬底上,用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法沉积碳纳米管薄膜.在SEM......
以改性二氧化锆的过渡层,用溶胶—凝胶法在不锈钢衬底上成功制备了锆钛比为52/48的锆钛酸铅膜.扫描电镜分析表明,膜的表面平整,无......
我们用混和物理化学气相沉积法（HPCVD）在不锈钢衬底上原位制备了以MgB2厚膜（约10微米厚）为过渡层的MgB超导厚膜（约20微米厚）样品，两层膜总......
我们用混合物理化学气相沉积法（hybrid physical—chemical vapor deposkion简称为HPCVD）以氩气为背景气体，在不锈钢衬底上于不同条件......
采用射频磁控溅射技术在不锈钢基底上制备NiCr金属薄膜，研究不同的氩气压强对样品形貌和光学、附着力性能的影响。结果表明：所制备的......
碳纳米管作为冷阴极场致电子发射材料的应用还有很多问题需要解决，如发射点密度及发射点均匀性、场发射的稳定性、碳纳米管的场发射......
采用RF-PECVD技术,制备NIP型非晶硅太阳能电池。系统研究了P型窗口层的掺杂浓度（B2H6/SiH4）和氢稀释率（H2/SiH4）对电池开路电压（Voc）的影......
氮化镓(GaN)是一种直接宽禁带半导体材料,常温下禁带宽度为3.39eV,由于它的带隙能从0.7eV连续变化到6.2eV,所对应的波长覆盖了从近......
利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法,分别在不锈钢衬底上和刻线的镍膜上直接沉积了碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征,......
期刊
将不锈钢衬底进行适当的预处理，采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的方法，在适当的工艺条件下，利用甲烷与氢气的混和气体，在不锈钢衬......
我们用混和物理化学气相沉积法(HPCVD)在不锈钢衬底上原位制备了以MgB2厚膜(约10微米厚)为过渡层的MgB2超导厚膜(约20微米厚)样品,......
采用直流磁控溅射技术,以掺Al为2%的Zn O陶瓷靶为靶材,通用的304不锈钢为衬底,制备了一系列Zn O∶Al薄膜,研究了溅射功率对样品薄......
