【摘 要】
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光刻设备是集成电路(IC)制造的核心设备,是高科技强国的战略性产品,也是当前国际科技竞争的主要战场和博弈焦点。目前,全球的高端光刻机市场已被荷兰ASML公司垄断,且其具备严
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光刻设备是集成电路(IC)制造的核心设备,是高科技强国的战略性产品,也是当前国际科技竞争的主要战场和博弈焦点。目前,全球的高端光刻机市场已被荷兰ASML公司垄断,且其具备严密的全球知识产权布局。而光刻设备的国产替代作为市场后入者,知识产权建设起步晚,并不占据优势地位。通过对光刻领域两大国际巨头ASML和Nikon在各自产品发展过程中不同阶段发生的专利诉讼案例的全面分析,探究在集成电路(或半导体)这样的技术密集型产业领域,知识产权诉讼中国际行业巨头常用的策略和技巧,进而得到对国产光刻装备知识产权建设的重要启
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