【摘 要】
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氢化非晶硅薄膜具有优异的光电特性,在制备薄膜太阳能电池中有重要的应用。本文采用热丝辅助MW ECRCVD技术,通过调整各种工艺参数,制备了高沉积速率(DR>2.5nm/s)及高光敏性(
【机 构】
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氢化非晶硅薄膜具有优异的光电特性,在制备薄膜太阳能电池中有重要的应用。本文采用热丝辅助MW ECRCVD技术,通过调整各种工艺参数,制备了高沉积速率(DR>2.5nm/s)及高光敏性(σph/σD>105)的氢化非晶硅薄膜。实验表明,在衬底表面温度的分布中,热丝辐射和离子轰击引起的温度对薄膜的光敏性影响较大;在薄膜沉积的最后几分钟适当加大H稀释率,有利于薄膜光电特性的改善。
Hydrogenated amorphous silicon thin films have excellent optoelectronic properties and have important applications in the fabrication of thin film solar cells. In this paper, hot-wire assisted MW ECRCVD technique was used to fabricate hydrogenated amorphous silicon films with high deposition rate (DR> 2.5nm / s) and high photosensitivity (σph / σD> 105) by adjusting various process parameters. Experiments show that in the distribution of substrate surface temperature, the temperature induced by hot wire radiation and ion bombardment greatly affects the photosensitivity of the film. Appropriate increase of the H dilution rate in the last few minutes of film deposition is beneficial to the photoelectrical properties of the film improve.
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