盛美12英寸单片清洗设备实现商用

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盛美半导体12英寸单片清洗设备近日成功进入世界知名芯片制造厂商生产线。盛美半导体12英寸单片兆声波清洗设备用于65nm技术节点以下的12英寸高端硅片清洗,盛美独家具有自主知识产权技术可使兆声波能量在12英寸硅片上非常均匀地分布(非均匀度的一个均方差小于2%),该技术在不损伤硅片微结构的条件下使颗粒去除效率达到99.2%。
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