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据《S．I．》杂志1998年第三期报道，由Glasgow大学电子和电气工程系组建的KelvinNanotechnology公司声称，在硅衬底上的PMMA层上，用直接描绘电子束光刻技术，已经制作成世界上最薄的布线。PMMP显影后，整个样品蒸发形成一层镍，用剥离法去除剩下的PMMP和金属，留下3nm直径的布线。Glassow大学的最新的研究表明，采用自对准技术做出3nm镍或镜一铬市线是可能的。用Kelvinnatotechnology技术实现掩模版生产和样品上的直接描绘。电子束光刻制作3nm布线@石松