夏普开发线宽0.24~0.70μm准分子曝光技术

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夏普开发线宽0.24~0.70μm准分子曝光技术日本夏普公司已研制成能形成线宽0.24~0.70μm的许多电路图形的准分子曝光技术。采用缩小曝光光照明的特殊滤光器,已实现控制光的透射率和相位。准分子激光器可望作为新一代的曝光光源,该公司已考虑把这种新... Sharp develops linewidth 0.24 ~ 0.70μm excimer exposure technology Japan’s Sharp Corporation has developed a number of circuit patterns can be formed 0.24 ~ 0.70μm line width of the excimer exposure technology. Using a special filter that reduces exposure to light, control of light transmittance and phase has been achieved. Excimer laser is expected as a new generation of exposure light source, the company has considered this new ...
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