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用热丝化学汽相淀积（ＨＦＣＶＤ）法在硅衬底上生长具有纳米晶粒结构的碳化硅薄膜，用Ｘ射线光电子谱仪（ＸＰＳ）、Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、傅里叶红外吸收光谱（ＦＴＩＲ）、紫外光Ｒａｍａｎ散射谱和高分辨透射电子显微镜（ＨＲＴＥＭ）对薄膜样品进行了结构和组分分析，并在室温条件下观察到了薄膜的高强度可见光发射。