管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究

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本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片正面镀膜时增加SiOxNy膜层,既可以增强正面的钝化效果,还可以降低对光的反射率,增加光吸收率,从而提升太阳电池的短波响应能力,通过对膜层组分和反应气体流量等工艺参数进行匹配优化,使太阳电池的光电转换效率提升了0.07%;利用SiyNx/SiOxNy叠层膜抗氧化、抗钠离子的特性,使太阳电池的抗电势诱导衰减(PID)性能提升了22%.
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