Ta_2O_5和Al_2O_3薄膜的离子辅助淀积

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本文介绍用离子辅助淀积法制作的Ta_2O_5和Al_2O_3薄膜的特性。测量了用不同的离子能(300、500及1000eV)和离子流密度(0~200μAcm~(-2)轰击制作的膜的折射率和消光系数。 This article describes the characteristics of Ta_2O_5 and Al_2O_3 thin films fabricated by ion-assisted deposition. The refractive index and extinction coefficient of the films fabricated with different ion energies (300, 500 and 1000 eV) and ion current densities (0-200 μA cm -2) were measured.
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