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电沉积Ni—W合金镀层的X射线光电子能谱分析
电沉积Ni—W合金镀层的X射线光电子能谱分析
来源 :材料保护 | 被引量 : 0次 | 上传用户:caochangzheng
【摘 要】
:
采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析.研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对
【作 者】
:
王宙
许光宇
王金玉
杨德庄
【机 构】
:
大连大学表面工程中心,江门市二轻中专学校,哈尔滨工业大学应用化学系,哈尔滨工业大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
材料保护
【发表日期】
:
2002年4期
【关键词】
:
电沉积
Ni-W合金镀层
X射线光电子能谱
镍钨合金
electrodepositing
Ni|W alloy plating
XPS
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采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析.研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用.
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