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期刊论文
常压等离子体渗氮主要工艺参数分析
常压等离子体渗氮主要工艺参数分析
来源 :材料保护 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mldn
【摘 要】
:
利用介质阻挡放电,进行了常压非平衡等离子体渗氮,着重讨论了有关工艺参数的影响情况.正交试验结果表明,合理选择放电电压、放电间距和渗氮温度是获得良好渗氮层的关键.在本
【作 者】
:
严立
朱新河
徐久军
秦艳
杨毅
高玉周
【机 构】
:
大连海事大学金属材料工艺所
【出 处】
:
材料保护
【发表日期】
:
2002年4期
【关键词】
:
常压等离子体渗氮
工艺参数
放电电压
放电间距
渗氮温度
渗层
硬度
深度
介质阻挡放电
dielectric barrier discharge
plasm
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利用介质阻挡放电,进行了常压非平衡等离子体渗氮,着重讨论了有关工艺参数的影响情况.正交试验结果表明,合理选择放电电压、放电间距和渗氮温度是获得良好渗氮层的关键.在本工艺条件下,适当减小放电间隙,增大电场强度,可以明显提高渗层的硬度和深度.
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