电沉积Ni-W-P合金镀层的研究

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电沉积Ni-W-P合金镀层易形成非晶态结构,因此具有较强的耐腐蚀性和优良的电催化性能,受到人们的极力关注。 本文以电沉积Ni-W-P合金为研究对象,以镀层在酸性介质中的腐蚀率和镀层的金相组织为考察指标,通过单因素试验,确定镀液中的各个组份浓度和工艺条件的变化对镀层质量的影响。提高硫酸镍的浓度,可提高沉积速率,但浓度过高,镀层中晶核的长大速度大于形成晶核的速度,不利于形成致密的镀层,影响镀层的耐蚀;钨、磷在铁族金属的镀液中,被诱导沉积,二者均可细化镀层组织,但是镀液中钨酸钠和次亚磷酸钠浓度不能太高,否则镀层的内应力升高,产生裂纹;柠檬酸作为络合剂,加大其使用量,能得到较致密的镀层,但加入量过大,增加了金属的析出难度;提高阴极电流密度可形成较致密的镀层,但过高的电流密度,使孔隙率增大,影响镀层的质量;电沉积的温度升高,可提高沉积速度,提高镀层的质量,但过高会加大液体的损耗。 在单因素试验的基础上,通过正交设计试验,找出了电沉积Ni-W-P合金镀层较佳的镀液组成以及工艺条件:NiSO4·6H2O 80g·L-1、Na2WO4·2H2O:170g·L-1、NaH2PO2·H2O 20g·L-1、H3BO3 20g·L-1、C6H8O7·H2O 230g·L-1、光亮剂1g·L-1、表面活性剂0.1g·L-1、Jc=6A·dm-2、T=50℃、t=2.5h、pH=3。并对在此条件下电沉积出合金镀层进行EDAX能谱、XRD和SEM测试和分析,结果表明:得出镀层的成份为Ni:86.64%、W:6.21%、P:9.15%,镀层金相组织均匀,致密具有非晶态结构。 本试验将Ni-W-P、Ni-W、Ni-P三种合金镀层,以及常用的316L不锈钢四种材料在酸中的耐蚀性进行了比较,发现前三种镀层的耐蚀性均超过了常用的316L不锈钢。但三元合金的耐蚀性优于二元合金。同时对Ni-W-P镀层在镀态和经200×0.5h热处理后两种情况下的耐蚀性进行了比较,发现合金经热处理后的耐蚀性强于镀态的耐蚀性,因为其品态结构变化不大,和镀层表面有一层氧化膜,使
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