【摘 要】
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电子束和X射线技术已经在半导体工艺中被用以制版、片子光刻以及探测等目的。目前的问题是:电子束和X射线技术将在多大程度上补充或取代光学的光刻方法。
E-beam and X-ray
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电子束和X射线技术已经在半导体工艺中被用以制版、片子光刻以及探测等目的。目前的问题是:电子束和X射线技术将在多大程度上补充或取代光学的光刻方法。
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