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近年来对Ａｕ／α－Ｓｉ∶Ｈ系统分形及晶化方面的研究很多［１，２］，它们的共同点是双层膜蒸镀都在真空中一次完成，中间不离开真空室，硅分形易于形成且效果非常显著。而世纪之交的微电子技术的发展趋势是集成电路小型化，这就意味着集成电路中的ＳｉＯ２层将趋于超薄...
Au／SiO2／α—Si：H中Au与α—Si：H的相互作用研究
【摘 要】
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近年来对Ａｕ／α－Ｓｉ∶Ｈ系统分形及晶化方面的研究很多［１，２］，它们的共同点是双层膜蒸镀都在真空中一次完成，中间不离开真空室，硅分形易于形成且效果非常显著。而世纪之交的微电子技术的发展趋势
【机 构】
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西北大学电子科学系,西安理工大学自控系
【出 处】
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电子显微学报
【发表日期】
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1998年5期
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