纳米级精度的线宽测量仪

来源 :光学精密工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cai372751072
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在大规模集成电路生产中,对掩膜版与硅片刻线宽度的在线检测是保证质量的重要手段。本文介绍了一种高精度,自动化的线宽测量仪。阐述了其原理,构成及设计中有关问题。经实验表明:该仪器的重复测量精度≤±0.005μm;测量精度为±0.02μm。 In large-scale integrated circuit production, on-line detection of reticle width and silicon line width is an important measure to ensure quality. This article describes a high-precision, automated line width gauge. Explain its principle, composition and design of the relevant issues. The experiments show that: the instrument’s repeated measurement accuracy ≤ ± 0.005μm; measurement accuracy of ± 0.02μm.
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