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纳米尺度线宽的测量在半导体集成电路制造业、数据存储工业以及微机电系统等领域广泛应用.随着制造技术的进步,线宽的临界尺寸也变得越来越小,目前已经缩小至100 nm左右.在这一尺度范围内,由于样本制造技术的限制和测量仪器的影响,很难得到精确的测量结果.针对目前纳米尺度线宽测量的研究状况,分析了这一领域的主要研究内容和面临的问题.