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本文介绍离子注入应用于硅器件制造中的方法和设计指南。其中包括硅片在注入时的适当倾斜和在注入后为消除注入损伤所必要的热处理。给出注入杂质(如砷、硼和磷)的空间分布随能量之变化。讨论了采用二重注入的 NPN 晶体管所得到的实验结果。
应用于硅器件制造的离子注入
【摘 要】
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本文介绍离子注入应用于硅器件制造中的方法和设计指南。其中包括硅片在注入时的适当倾斜和在注入后为消除注入损伤所必要的热处理。给出注入杂质(如砷、硼和磷)的空间分布随
【出 处】
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半导体情报
【发表日期】
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1973年04期
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