【摘 要】
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本文讨论一种动态存储器结构,它能组成1M位VLSI的10×10mm~2存储器芯片采用常规光刻,其光刻尺寸为2~u以下。 图1给出了2位单管单容存储器单元的结构。该存储器单元由一个四
【机 构】
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Technology Research Association Cooperative Laboratories Kawasaki, Japan,Technology Research Associa
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本文讨论一种动态存储器结构,它能组成1M位VLSI的10×10mm~2存储器芯片采用常规光刻,其光刻尺寸为2~u以下。 图1给出了2位单管单容存储器单元的结构。该存储器单元由一个四层自对准(QSA)MOSFET,一个钽氧化物的迭式高存储电容,一条多晶硅字线和一条Al位线所组成。
This article discusses a dynamic memory structure, which can form a 1-bit VLSI 10 × 10mm ~ 2 memory chips using conventional lithography, the lithography size of 2 ~ u or less. Figure 1 shows the structure of a 2-bit single-bank single-cell memory cell. The memory cell consists of a quad-layer self-aligned (QSA) MOSFET, a stacked high storage capacitor of tantalum oxide, a polysilicon word line and an Al bit line.
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