低温化学汽相淀积钼的生长及其特性

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引言高纯金属一般是用氢还原其卤化物来制备的。钼和钨虽然是高熔点金属,但能够在温度低至500℃下方便地制取。因此研究这些低温淀积的金属薄膜的性质是相当有益的。本研究中所选用的卤化物是 MoCl_5和 WCl_6。 Introduction High purity metals are generally prepared by hydrogen reduction of their halides. Although molybdenum and tungsten are refractory metals, they can be conveniently prepared at temperatures as low as 500 ° C. It is therefore quite beneficial to study the properties of these low temperature deposited metal films. The halides used in this study were MoCl_5 and WCl_6.
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