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氮化硅的应力严重制约着它的应用，但常见资料对氮化硅应力的分析颇略。本文较详细地介绍了ＰＥＣＶＤＳｉｘＮｙ，薄膜应力大小与制备工艺的关系，从而揭示了以能效地抑制ＳｉｘＮｙ应力的工艺叙述。文中给出了大量数据，对许多实际问题进行了讨论。
等离子氨化硅应力的研究
【摘 要】
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氮化硅的应力严重制约着它的应用，但常见资料对氮化硅应力的分析颇略。本文较详细地介绍了ＰＥＣＶＤＳｉｘＮｙ，薄膜应力大小与制备工艺的关系，从而揭示了以能效地抑制ＳｉｘＮｙ应力的工艺叙述。文中给出了大
【机 构】
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电子工业部中国华晶电子集团公司
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1996年3期
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