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为了解米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶（GlcNase）的结构特点，采用焦碳酸二乙酯（DEPC）和N-溴代琥珀酰亚胺（NBS），分别对GlcNase分子中的纽氨酸（His）残基和色氨酸（Trp）残基进行化学修饰。DEPC修饰结果表明，有1分子His残基位于GlcNase的活性部位；NBS修饰结果表明，Trp残基处于GlcNase的活性部位，且至少有1分子Trp残基位于GlcNase活性部位的底物结合部位。