RF磁控溅射法制备PbTe纳米薄膜

来源 :山东师范大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kof2112
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利用RF磁控溅射和真空退火方法制备了PbTe纳米薄膜.利用SEM、XRD、AFM和FTIR分别对制备的样品的表面形貌和颗粒大小、结构以及带隙宽度进行了测试.结果显示,在10W溅射功率下制备的PbTe纳米薄膜为纳米颗粒镶嵌薄膜,在20W功率下为PbTe颗粒膜.10W制备的纳米颗粒的平均直径为40nm左右,平均高度为5nm;20W制备的颗粒直径为100—400nm,平均高度为65nm;两个条件下制备的样品均表现出明显的〈100〉方向的择优取向性,并且20W的结晶质量比10W的好.FTIR分析显示10W和20W
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