ETV-ICP-AES中硼、钼、铬和硅的蒸发机理研究

来源 :武汉大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:wjdy110
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研究了难熔元素硼、铬、钼和硅在石墨炉电热蒸发进样──ICP-AES中的蒸发行为,探讨了以聚四氟乙烯为氟化剂改善难熔元素蒸发的方法.系统地考察了影响难熔元素氟化蒸发的因素,提出了难熔元素的蒸发机理. The evaporation behavior of boron, chromium, molybdenum and silicon, which are refractory elements, in electrothermal evaporation in graphite furnace ─ ICP-AES was studied. The method of using polytetrafluoroethylene as fluorinating agent to improve the evaporation of refractory elements was discussed. The influencing factors on the fluorination and evaporation of refractory elements were systematically investigated, and the evaporation mechanism of refractory elements was proposed.
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