电泳沉积法在Ni-W基带上制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导厚膜(英文)

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研究La0.4Sr0.6TiO3(LSTO)缓冲层和YBa2Cu3O7-δ(YBCO)超导厚膜的低成本制备技术。采用X射线衍射分析LSTO和YBCO膜的晶体取向,利用标准四引线法分析LSTO薄膜的导电性能和YBCO厚膜的超导性能。首先采用金属有机沉积法(MOD)成功在Ni-W基带上制备取向较好、表面光滑致密的LSTO缓冲层;然后采用电泳沉积(EPD)技术制备YBCO超导厚膜。研究电泳沉积电压和沉积时间对YBCO涂层性能的影响。结果表明:138V下电泳沉积35 min所制备的YBCO涂层,临界电流密度可达600 A/cm2(0 T,77 K)。 The low-cost fabrication technology of La0.4Sr0.6TiO3 (LSTO) buffer layer and YBa2Cu3O7-δ (YBCO) superconducting thick film was studied. The crystal orientations of LSTO and YBCO films were analyzed by X-ray diffraction. The conductivity of LSTO films and the superconductivity of YBCO films were analyzed by the standard four-lead method. Firstly, LSTO buffer layer with good orientation and smooth surface was successfully prepared on Ni-W substrate by Metal Organic Deposition (MOD). Then the YBCO superconducting thick film was prepared by electrophoretic deposition (EPD) technique. The effects of deposition voltage and deposition time on the properties of YBCO coatings were investigated. The results show that the critical current density of YBCO coating deposited at 138 V for 35 min can reach 600 A / cm2 (0 T, 77 K).
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