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用激光束成像法测量双E型硅弹性膜应变
用激光束成像法测量双E型硅弹性膜应变
来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shicyh
【摘 要】
:
报道了用激光束成像法对双E型传感器的硅弹性膜在不同压力情况下的应变进行的研究,并测出该弹性膜的应变情况。此方法对其他形式的敏感芯片应变的研究具有一定的参考价值。
【作 者】
:
邓永和
【机 构】
:
湖南工程学院数理系
【出 处】
:
微纳电子技术
【发表日期】
:
2003年06期
【关键词】
:
激光束成像法
硅弹性膜
应变
双E型传感器
敏感芯片
力学结构
laser beam image
elastic diaphragm
strain
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报道了用激光束成像法对双E型传感器的硅弹性膜在不同压力情况下的应变进行的研究,并测出该弹性膜的应变情况。此方法对其他形式的敏感芯片应变的研究具有一定的参考价值。
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