宽带隙薄膜的场发射特性研究

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在理论上,该论文采用平面二极管结构研究宽带隙薄膜的场致电子发射,其能带结构可以简化为沿平面法线X的一维形式.在数值模拟中计算了电子的透过率与电子能量的关系.用APCVD和MPCVD二种工艺,分别制备出了非晶碳薄膜和SiC薄膜.在自行研制的真空场致发射测试台上完成了薄膜场致发射测试.为了研究用FePc高温分解阵列的阵列碳纳米管薄膜的场致发射和生长机理,该文研究了该薄膜原微观形貌.除去顶部的铁粒子后,碳纳米管具有开口末端,这种碳管开口可以用作火山口场致发射尖端;注意到其它优良的物理化学特性,该薄膜具有在场致发射方面应用的良好前景.
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