硅晶片是制造集成电路的主要部分，而且对硅晶片表面的清洁度有很高的要求，硅晶片表面常见的污染主要包括：有机物、固体颗粒和金属离子污染等，这就需要很高的清洗技术才能保证硅片表面的洁净度。在LCD生产过程中，由于液晶基片表面的残留液晶会造成电极接触不良，电路断路，短路等弊病，导致整机报废，损失严重。 采用图像处理技术对产品表面进行检测属于非接触检测，该方法融合了计算机的快速性、高效性，弥补了传统检测方法中存在的诸多不足，这种方法正在被广泛的应用。针对硅片表面缺陷的特点，对其缺陷的提取技术进行了研究，设计了多结构元素的广义形态闭开和形态开闭滤波器，结合改进分水岭算法进行缺陷提取。滤波器对输入图像及滤波后图像的梯度图像进行平滑，实现消除噪声、简化图像、保持细节的作用。为了克服分水岭的过度分割问题，提出了改进的分水岭算法，利用区域强度准则和边界强度准则对过分割区域进行合并，很好的解决了过分割问题。 针对液晶制品的特点，对其表面残留液晶的提取技术进行了研究，提出了基于迭代阈值分割和数学形态学的边缘检测方法从目标区域中提取出液晶残留。首先将原图按坐标分成若干子图像，再对子图像进行迭代阈值分割，然后采用不同尺度的结构元素来检测图像边缘，再进行加权合成来获得边缘图像，并从理论上分析了噪声对边缘提取的影响情况。最后针对分割图像，提取缺陷的形态特征、几何特征、纹理特征等，包括目标的面积、周长、灰度值、矩特征、熵等参数，并计算出图像中缺陷的圆形度和伸长度指标，利用这些特征设计了线性二叉树分类器对缺陷进行对硅片表面的缺陷进行了分类；并利用这些特征对液晶基片表面的残留液晶进行了统计和分析。对晶片的清洗技术起到了有利的指导作用，该套检测系统所应用的技术和方法为今后的深入研究和将其应用于实际生产奠定了坚实的基础。