本文的工作主要是针对超光滑表面加工过程中出现的粗糙度较大和容易出现划痕的问题，系统研究了抛光过程的主要参量对抛光质量的影响规律和控制方法。由于影响抛光质量的物理化学因素非常多，所涉及的方面也是极其复杂的，所以实现高质量的光学元件的大批量生产也是非常困难的。实现生产的自动化是超光滑表面加工所追求的最终目标。本文主要是围绕影响抛光质量的几个主要参量展开研究： 一、总结了国内外对超光滑表面加工的技术分类和各自优缺点、发展现状。根据我们国家的发展现实，研究重点还是放在对传统抛光技术的改进和优化上，并适当地引入新的抛光技术。 二、介绍了超光滑表面的特点、在ICF中的关键作用以及对光束传输质量的影响。ICF系统对超光滑表面光学元件的需求量极大，对加工精度的要求近乎极限的要求，超光滑表面光学加工问题已经成为瓶颈问题，急待加工水平的提高。同时介绍了对超光滑光学表面各项指标进行检测的仪器的工作原理和优缺点。 三、详细研究抛光液的pH值对抛光质量的影响。抛光液的pH值同时影响着玻璃的水解作用、玻璃的侵蚀作用、抛光粉的团聚作用等。所以要针对不同材料的玻璃、不同种类的抛光粉以及不同的加工要求等因素综合考虑抛光液pH值的最佳选择。 四、详细研究了抛光粉的特征对抛光质量的影响。抛光粉的很多特征参量，如粒度及其分布、晶粒大小、形貌等都对抛光表面的质量产生影响。而且这些参量会随抛光时间变化，本文根据这些参量变化规律及其对抛光质量的影响，把抛光过程分成抛