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LiNbO_3因具有优异的电光、压电、非线性光学等特性,已被广泛应用于声表面波及集成光学器件中。制备集成光学器件常需将LiNbO_3制成各种形式的光波导结构,但传统方法制备的光波导薄膜存在较多的缺点,因而异质LiNbO_3薄膜引起了人们的关注。与体单晶相比,异质LiNbO_3薄膜具有明显的优势。如可以获得较大的波导膜与衬底折射率差。至今人们已经采用多种薄膜生长技术来制备异质LiNbO_3薄膜,相比其它薄膜生长技术,射频磁控溅射法有许多优势。硅材料作为半导体微电子工业的基石,在硅衬底上生长LiNbO_