面向微光学元件加工的纳米压印设备的优化设计

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随着微光学技术的不断发展和成熟,微光学元件(MOE)制作工艺已经成为其应用领域拓展的重要技术瓶颈之一。纳米压印技术作为MOE新兴制造工艺,因其能够突破传统微细加工极限分辨率并降低加工成本而备受关注。先进的加工技术离不开先进的设备,因此研制一种性能良好、使用方便、可靠性高的压印设备对于MOE加工技术的发展显得尤为重要。针对课题组前期研发的热压印设备存在的问题及不稳定因素,本文从功能、集成度、整体性能等进行多方面的优化和改进,并对紫外/热压印两用的压印设备进行设计。首先对纳米压印的工艺特点及相关
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