KDP(Potassium Dihydrogen Phosphate,磷酸二氢钾)晶体是20世纪40年代发展起来的一种非常优良的电光非线性光学晶体材料。这种材料是“惯性约束核聚变”(ICF)固体激光驱动器、强激光武器中不可替代的光学倍频转换器和电光开关器件用材料。但是,KDP晶体具有质软、脆性高、易潮解、对温度变化敏感的特点,这些特点对其加工十分不利,同时,激光惯性约束核聚变对KDP晶体光学元件的要求很高,所有这些使得KDP晶体零件的制造非常困难,大尺寸高精度光学KDP晶体零件是目前公认的最难加工的光学零件之一。目前应用于KDP晶体超精密加工的方法都不同程度地存在着一定的问题,还有待于进一步完善。在努力完善原有KDP晶体超精密加工方法的同时,也应该积极探索新的KDP晶体超精密加工方法,以满足实际应用的需要。为了适应KDP晶体超精密加工技术的发展需要,本文提出一种利用潮解作用对KDP晶体进行超精密加工的新技术,即基于潮解作用的KDP晶体抛光技术。本文对该方法的关键技术进行了研究,具体的研究内容包括:本文首先综述了KDP晶体超精密加工技术的国内外发展现状,简要介绍了一些新型抛光技术,在此基础之上,根据KDP晶体的易潮解性质,提出了基于潮解作用的KDP晶体抛光技术。在对KDP晶体材料进行介绍和对潮解本质进行研究的基础上,进行了KDP晶体表面溶解实验,并借鉴晶片化学机械抛光(CMP)中材料的去除机制,提出了基于潮解作用的KDP晶体抛光的材料去除机制。对基于潮解作用的KDP晶体抛光工艺进行了规划,进行了基于潮解作用的KDP晶体抛光实验,验证了所提出材料去除机制的正确性、可行性与有效性。在对基于潮解作用的KDP晶体抛光过程进行简单分析的基础上,探讨了对基于潮解作用的KDP晶体抛光中溶解作用进行控制的意义,提出了通过含水的抛光液对水的溶解作用进行控制的思想,重点对抛光液进行了研究,研制出了抛光液。通过基于潮解作用的KDP晶体抛光实验,对所提出溶解作用控制方法进行了验证,并检验了所研制抛光液的性能。通过基于潮解作用的KDP晶体抛光工艺实验,研究了KDP晶体表面初始状况、抛光时间、抛光盘转数等输入变量对基于潮解作用的KDP晶体抛光材料去除和表面粗糙度的影响,获得了较优的工艺参数组合范围,为基于潮解作用的KDP晶体抛光技术的进一步研究与应用奠定了基础。对基于潮解作用的KDP晶体抛光过程进行了运动学分析,并在此基础上对基于潮解作用的KDP晶体抛光相对运动轨迹进行了研究,进行了相对速度分析和抛光行程分析。从理论上对基于潮解作用的KDP晶体抛光过程进行了分析,研究了基于潮解作用的KDP晶体抛光中主要因素对抛光过程的影响。