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一种新型的镀膜技术——磁控溅射工艺和设备的探讨
【机 构】
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苏州电阻厂
【出 处】
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中国电子学会电子元件学会及阻容元件专业情报网第六、七届年会
【发表日期】
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1988年期
其他文献
该文主要论述大束流负氧离子辅助电子束蒸发TiO[*V2*]膜层的实验情况。其中包括负氧离子源的构造和基本原理。比较了中性氧和氧离子在不同基片温度和不同蒸发速率条件下蒸镀5