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JCKL－600连续磁控溅射台的设计经验
【机 构】
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北京仪器厂
【出 处】
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中国真空学会第三届真空薄膜技术学术研讨会
【发表日期】
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1989年期
其他文献
该文主要论述大束流负氧离子辅助电子束蒸发TiO[*V2*]膜层的实验情况。其中包括负氧离子源的构造和基本原理。比较了中性氧和氧离子在不同基片温度和不同蒸发速率条件下蒸镀5