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介绍了一种利用KOH溶液对硅的各向异性腐蚀原理,并结合抛光技术制作垂直的<100>光学微镜面的方法.制成的微镜高度300μm,厚度3.3μm,宽度容易控制.初步测试对1.55μm波长光源插入损耗接近1dB.
一种制作硅垂直光亮微镜面的方法
【摘 要】
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介绍了一种利用KOH溶液对硅的各向异性腐蚀原理,并结合抛光技术制作垂直的光学微镜面的方法.制成的微镜高度300μm,厚度3.3μm,宽度容易控制.初步测试对1.55μm波长光源插入损耗接近1dB.
【机 构】
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中国科学院上海冶金研究所传感技术国家重点实验室(上海)
【出 处】
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第五届全国微米/纳米技术学术会议
【发表日期】
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2001年8期
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