【摘 要】
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利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机把Ti+以不同的加速电压注入到高纯石英玻璃、蓝宝石等衬底中.离子注入的加速电压分别为20kV、50kV和80 kV,注入剂量为1,2×10
【机 构】
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武汉大学物理科学与技术学院,湖北武汉,430072
【出 处】
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2012全国荷电粒子源、粒子束学术会议
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利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机把Ti+以不同的加速电压注入到高纯石英玻璃、蓝宝石等衬底中.离子注入的加速电压分别为20kV、50kV和80 kV,注入剂量为1,2×1017ions/cm2.不同注入剂量样品在氧气气氛下进行不同温度的热退火处理来制备与衬底附着力较好且性能优良的二氧化钛薄膜.在退火过程中,Ti原子逐渐扩散到样品表面并被氧化形成TiO2薄膜.对不同样品进行分析,用紫外可见吸收光谱测量TiO2薄膜带隙、用拉曼光谱测量晶体结构,用扫描电镜(SEM)进行表面形貌分析用透射电子电镜(TEM)进行了薄膜的微结构分析,光催化降解亚甲基蓝、抗菌实验以及附着力测试表明,利用离子注入和后期热退火处理的方法制备的二氧化钛薄膜具有良好的光催化降解污染物和抗菌性能且薄膜与基底有较强的附着力.
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