等离子化学气相淀积相关论文
等离子增强化学气相淀积法(PECVD)制备的氮化硅薄膜具有沉积温度低、生长速率高、残余应力可调节等特点,在微电子机械系统(micro-e......
采用等离子化学气相淀积(PECVD)技术和离子注入方法，制备掺铒a-Si:H,O薄膜。在波长1.54μm处观察到很强的室温光致发光(PL)。研究了......
数字化X-Ray平板图像探测器广泛应用于航空宇航、医疗、无损检测等工业领域，其产品具有品质优良、数据传输方便等优点而备受青睐。......
概述了微波 ECR(Electroll Cyclotron Resonance)等离子化学气相淀积新技术(PCVD)在原子氧效应防护技术中的应用。文章对其原理、......
介绍了二氧化硅膜厚标准样片的用途及国内研制样片的情况,设计了二氧化硅膜厚样片的制作版图,分别采用热氧化和等离子化学气相淀积......
等离子增强化学气相淀积法（PECVD）淀积的氮化硅薄膜具有沉积温度低、生长速率高、均匀性好等优点,在微电子机械系统（Micro-Electromec......
新型的氢离子敏器件采用 PECVD 法淀积含氢量较高的 SiNxHy 膜,同时作为敏感膜与二次钝化保护膜,改善了器件的密封性能.器件敏感灵......
