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离子辅助轰击能有效改善非晶碳膜(a-C)的质量.用脉冲激光(532nm,3.5×10W/cm烧蚀石墨靶,同时用Ar轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C......
离子辅助轰击能有效改善非晶碳(a-C)膜的质量.用脉冲激光(532 nm, 3.5×108 W/c m2)烧蚀石墨靶,同时用Ar+轰击膜面,在Si(100)......