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氧化硅刻蚀相关论文
刻蚀和沉积工艺腔室的理论仿真及实验验证
随着半导体工艺的发展,刻蚀和沉积的腔室条件复杂性增加,特别是等离子参与的工艺过程。国内目前对于工艺流程的设计和设备制造这样一......
学位
刻蚀和沉积工艺
仿真和实验
硅刻蚀
氧化硅刻蚀
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氧化硅干法各向异性刻蚀研究
氧化硅的干法各向异性刻蚀是芯片制造中的一项关键工艺技术,集成电路的制造发展到ULSI(甚大规模集成电路)阶段,图形密度越来越高,加工线......
期刊
芯片制造
氧化硅刻蚀
各向异性
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刻蚀损伤
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