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控制氧化层对双势垒纳米硅浮栅存储结构性能的影响
在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中,利用逐层淀积非晶硅(a-Si)和等离子体氧化相结合的方法制备二氧化硅(SiO2)介质层.电容......
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