本文提出一种制作LCD用高精密度网点液体版的方案,通过接近式曝光理论分析和采用特殊的工艺方法,使得网点的浮雕结构合理,获得了高......

用自制的聚硅烷为抗蚀剂，分别用酚醛树脂、聚氨脂树脂和醇酸树脂作平坦层以３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光为刻蚀光源，采用接近式曝光方式，通过Ｏ〈，２〉－ＲＩＥ对显影......

为满足掩模移动曝光技术制作微光学元件的要求,研制了接近式曝光系统中使用的x-y二维精密移动工件台.该工件台由x-y二维整体手动工......

描述了一种压电喷墨打印头SU-8光刻胶锥形喷孔的制作方法.该方法基于接近式曝光工艺和键合工艺,首先在PDMS基底上旋涂SU-8光刻胶,......

阐述了微小孔近场衍射的基本理论。重点对单色光垂直入射时圆孔衍射场的光强空间分布进行了计算机数值模拟。通过对不同半径圆孔的......

Ｘ射线光刻是一种能满足下世纪初超大规模集成电路（ＶＬＳＩ）生产的深亚微米图形加工技术。论述了这种光刻技术的发展历史及近年来的主要进展。......